Mu Metal（MU49，MU80，MU85）或Mu Metal屏蔽層是一種軟鐵磁合金，因此在去除外部磁化力后不會(huì)獲得剩磁。它具有很高的初始磁導(dǎo)率和最大磁導(dǎo)率，并具有標(biāo)稱磁滯損耗。它具有較小的矯頑力，額定鐵心損耗和較小的剩磁。為了獲得必需的磁性功能，應(yīng)在露點(diǎn)低于– 40oC的干氫條件爐中于1100oC至1180oC熱處理Mu金屬2至4個(gè)小時(shí)。這種熱處理使磁導(dǎo)率提高了40倍。

通過對(duì)Mu Metal（MU49，MU80，MU85）進(jìn)行退火可以改善晶粒和磁疇的尺寸。盡管這些延伸的晶粒容易受到劇烈沖擊，或者在這些區(qū)域附加的機(jī)械加工和滲透性將降低。可以通過重新退火進(jìn)行改進(jìn)。高磁導(dǎo)率Mumetal為磁通量提供了一種低磁阻路徑，從而使其可用于DC和AC電流應(yīng)用中的磁屏蔽。

工業(yè)名稱： Mu metal，Mushield

Mu Metal執(zhí)行規(guī)格： 

MIL-N-14411 C（MR）

ASTM A-753-78

Mu Metal（MU49，MU80，MU85）應(yīng)用

變壓器：鋁金屬避免與周圍電路接觸。

存儲(chǔ)磁盤：在硬盤中，畝金屬可防止磁場干擾磁盤。

在陰極射線管中使用Mu Metal可以避免由于重定向的電子束而引起的磁場漂移。

其他用途是在磁性留聲機(jī)，磁共振成像設(shè)備，光電倍增管，真空容器和超導(dǎo)電路中。

Mu Metal（MU49，MU80，MU85）在磁屏蔽中的作用

極易滲透的Mu Metal（MU49，MU80，MU85）為磁場提供了較小的磁阻路徑，可在靜態(tài)或名義上變化的磁場中用作磁屏蔽。Mu金屬磁屏蔽為包圍封閉區(qū)域的磁場線提供了一種方法。因此，用于屏蔽的合適形狀是覆蓋屏蔽區(qū)域的封閉腔室。這種屏蔽層的適用性取決于金屬的滲透性。因此，金屬合金屏蔽罩由許多外殼構(gòu)成，一個(gè)外殼在另一個(gè)外殼內(nèi)，從而大大減小了內(nèi)部磁場。當(dāng)Mu Metal在小范圍內(nèi)飽和時(shí)，多層屏蔽中的外層由標(biāo)準(zhǔn)鋼制成。由于其飽和值較大，因此可以輕松處理強(qiáng)磁場，將其控制在適當(dāng)?shù)乃剑杂行У仄帘蝺?nèi)部金屬金屬層。

MU49

電阻率μΩ·m0.45

最大磁導(dǎo)率大于50000

矯頑力A.m-1≤8.8

密度／（g/cm3)8.25

居里點(diǎn)／℃490

飽和磁感應(yīng)強(qiáng)度Bs/T1.5

維氏硬度HV軟態(tài)100-180

抗拉強(qiáng)度／MPa軟態(tài)530

屈服強(qiáng)度／MPa軟態(tài)220

伸長率：

冷硬態(tài)＞4

軟態(tài)＞40

MU80

電阻率μΩ·m0.55

最大磁導(dǎo)率110000-220000

矯頑力A.m-1≤1.2

密度／（g/cm3)8.60

居里點(diǎn)／℃450

飽和磁感應(yīng)強(qiáng)度Bs/T0.63

維氏硬度HV軟態(tài)100-180

抗拉強(qiáng)度／MPa軟態(tài)560

屈服強(qiáng)度／MPa軟態(tài)150

伸長率：

冷硬態(tài)＞3

軟態(tài)＞50

MU85

電阻率μΩ·m0.56

最大磁導(dǎo)率110000-250000

矯頑力A.m-1≤0.8

密度／（g/cm3)8.75

居里點(diǎn)／℃400

飽和磁感應(yīng)強(qiáng)度Bs/T0.7

維氏硬度HV軟態(tài)100-180

抗拉強(qiáng)度／MPa軟態(tài)570

屈服強(qiáng)度／MPa軟態(tài)160

伸長率：

冷硬態(tài)＞3

軟態(tài)＞45

MU49主要用途

MU49

中等磁場中工作的各種變壓器、繼電器、電磁離合器鐵芯，變頻器

MU80

各類弱磁小型變壓器鐵芯，導(dǎo)磁元件、磁屏蔽、磁放大器、互感器

MU85

磁屏蔽－防止電磁干擾，可以做成屏蔽膜、屏蔽罐和空間屏蔽陣列

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屏蔽磁場高性能導(dǎo)磁材料MU-Metal

1.質(zhì)量分?jǐn)?shù)為Ni29-85%的二元Ni-Fe基

2.真空精煉，多輥軋機(jī)冷軋，高

材。純氫氣退火。

3.正常磁滯回線，矩形磁滯回線，扁平磁滯回線。

4.扁帶，圓線。